セミナー情報
顔料分散技術の安定化と最新動向 情報機構
情報機構はセミナー「顔料分散技術の安定化と最新動向」を開催する。プログラムは①顔料分散における均一安定化とそのポイント②顔料分散剤の特性と選定法③分散安定性評価とゼータ電位④カラーフィルタにおける顔料分散レジストの分散安定化。日時は2008年7月16日10：30～17：00。場所は大田区産業プラザ（東京都大田区南蒲田1-20-20 ）。参加費は46,200円（昼食代含）。
申し込み・問い合わせTEL03-5740-8755
- 主な内容
顔料分散技術の安定化と最新動向を解説する
- 講師
郷司春憲氏（日本ペイント）、衣川雅之氏（共栄社化学）、筒井和典氏（大塚電子）、迫直樹氏（三菱化学）
- 日時
- 2008年7月16日(水) 10：30～17：00
- 場所
- 大田区産業プラザ（東京都大田区南蒲田1-20-20 ）
- 入場料
- 46,200円
- 主催
情報機構
- ウェブサイト
- http://www.johokiko.co.jp/seminar_chemical/AC080713.php
- お問い合わせ
TEL03-5740-8755