セミナー情報
塗布膜の乾燥プロセスにおける解析・制御技術 Ｒ＆Ｄ支援センター
R＆D支援センターはセミナー「塗布膜の乾燥プロセスにおける解析・制御技術」を開催する。セミナーでは、①塗布膜乾燥プロセスの解析や制御にとって基礎となる界面科学とレオロジーについて②塗布膜の乾燥プロセスである蒸発、対流、沈降、固化の四大プロセスについて③塗布膜の乾燥に伴って基本的に発生するブロードリングやスポーク線などのマクロなパターンとフラクタル的な多彩なミクロなパターンの発生とそのメカニズムの解析、制御について解説する。日時は2011年11月29日10：30～16：30。場所は江東区産業会館（東京都江東区東陽4-5-18）。参加費は49,980円。
申し込み・問い合わせTEL03-3599-5811
- 主な内容
塗布膜の乾燥プロセスにおける解析・制御技術について解説する。
- 講師
大久保恒夫氏（コロイド組織化研究所）
- 日時
- 2011年10月29日(土) 10：30～16：30
- 場所
- 江東区産業会館（東京都江東区東陽4-5-18）
- 入場料
- 49,980円
- 主催
Ｒ＆Ｄ支援センター
- ウェブサイト
- http://www.rdsc.co.jp/seminar/111125.html
- お問い合わせ
TEL03-3599-5811
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